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    真空氣氛爐主要作用于物體的燒結，而在制品的燒結過程中可控氣氛爐能夠有效地提高制品的致密化程度從而獲得良好的性能制品。

    適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備。

    真空氣氛爐是大家所熟知的能夠提供氣氛保護和各種氣氛環境的高溫實驗設備；

    也可以用于生產。但是使用者更希望能夠有一個穩定的氣氛環境。

    如何實現自動穩定爐內壓力并及時補充氣體成了很多使用者關心的功能。

    在氣氛爐上面加裝電磁閥進行簡單的擴展便能實現自動進氣和自動泄壓。

    一個電磁閥控制進氣，另一個電磁閥控制泄壓。當壓力表探測到壓力低于某一設定壓力時會給電磁閥一個電信號；

    電磁閥接通此時氣源會向氣氛爐內補充氣體，當氣氛爐內壓力恢復至設定值時電磁閥關閉；

    不再繼續通入氣體。同樣的原理可實現自動泄壓。如此循環工作來保證爐內氣體的穩定和充足。

    其實原理固然簡單，但是要做好各個電器的配合以及氣管接頭的密封等等都是要仔細考慮的細節。

    如果配以混氣系統加以配合效果會更好，能很大程度上實現自動化，解放實驗人員的時間和空間，同時控制更加精準。